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[电镀百科]千屹：真空磁控溅射镀膜原理简介2016年10月07日 11:02
真空磁控溅射镀膜是通过物理学电磁场原理产生的电镀技术：电子在电场的效果下加快飞向基片的过程中与氩原子发作磕碰，电离出很多的氩离子和电子，电子飞向基片。氩离子在电场的效果下加快轰击靶材，真空磁控溅射镀膜溅射出很多的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜。
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