真空镀膜工艺分为多种，包括有真空磁控溅射镀膜，蒸发镀以及光学离子镀。现在主要来讲讲磁控溅射镀膜的原理以及优缺点是什么，让大家对这个电镀工艺有所了解，对产品电镀的选用工艺有所帮助。
每种工艺都有优缺点，真空磁控溅射镀膜的优点就是，它电镀的膜层纯度高，附着力好，而且膜厚均匀，这样的工艺重复性比较好。缺点当然也得注重，由于设备结构的复杂，如果溅射靶材被穿透，就会使整块靶材报废，所以靶材利用率低下就是缺点。
千屹真空磁控溅射镀膜的优势：
◆ 引进德国真空镀膜设备，300℃高温真空炉，使电镀品更耐磨、色泽稳定不易褪色；
◆ 配备全自动环保清洗过滤机，无尘车间操作，5S车间管理体系，ERP生产管理系统；
◆ 现有从事多年电镀行业生产、管理和加工技术人员200余人，其中核心真空镀膜技术人员8人；
◆ 所有产品均采用真空炉内纳米离子镀膜及磁控溅射处理，所应用的镀料均有合格的检测证明，电镀质量高，绿色环保；
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