一、靶材的选用原则及其分类
随着溅射镀膜特别是磁控溅射镀膜技术的日益发展，目前，几乎可以说，对任何材料都可以通过离子轰击靶材制备薄膜，由于靶材被溅射的过程中将其涂覆到魔种基片上，对溅射膜的质量有着重要的影响，因此，对靶材的要求也更加严格。在靶材选用上，除了应按膜本身的用途进行选择外，还应考虑如下几个问题：
（1）靶材成膜后应具有良好的机械强度和化学稳定性;
（2）靶材与基体集合必须牢固，否则应采取与基体具有较好结合力的膜材，先溅射一层底膜再进行所需膜层的制备；
（3）作为反应溅射成膜的膜材必须易与反应气体生成化合物膜；
（4）在满足膜性能要求的前提下，靶材与基体的热膨胀系数的差值越小越好，借以减小溅射膜热应力的影响；
（5）根据膜的用途与性能要求，所用的靶材必须满足纯度、杂志含量、组分均匀性、机械加工精度等技术要求。
二、几种常用靶材的制备
（1）铬靶
铬作为溅射膜材不但易与基材结合有很高的附着力，而且铬与氧化物生成CrQ3膜时，其机械性能、耐酸性能、热稳定性能都较好。
（2）ITO靶
制备ITO膜所用的靶材，过去通常采用In-Sn合金材料来制靶。
（3）金及合金靶
金，光泽迷人，具有良好的耐蚀性，是理想的装饰品表面涂覆材料。
