真空电镀物件的材质、表面结构、晶体结构、镀件温度、蒸发物质、蒸发速度、蒸发粒子对镀件的入射方向等对膜层质量的影响与蒸发镀成膜时相同，下面介绍影响离子镀膜质量的特有因素。(千屹电镀)
1.离子效应对成膜的影响；离子镀膜用气体离子进行轰击，使镀件表面的结构改变，表面电位分布均匀，能以高密度粒子生长成膜。(千屹电镀)
2.活性气体分压的影响；活性气体分压影响成膜特性。以甲烷作活性气体沉积碳化钛膜为例，当甲烷气压为时，不会形成TiC膜，只能形成Ti膜。(千屹电镀)
3.镀件温度对镀膜层硬度的影响；以甲烷制备TiC膜为例。镀件温度在400℃以下，生成的是TiC膜;在600℃，硬度接近2000HV，随着镀件温度的提高，膜层硬度增加。(千屹电镀)
4.加速电压对膜层应力的影响；如TiC膜中应力和加速电压的关系。加速电压为零时，应力最小，但随着加速电压的升高，膜层应力降低。(千屹电镀)
