在一些电镀镀金厂里，磁控溅射镀膜（英语：magnetron sputtering）是在溅射的基础上，运用靶板材料自身的电场与磁场的彼此电磁交互作用，在靶板邻近增加磁场，使得二次电子电离出更多的氩离子，增加磁控溅射镀膜功率。
磁控溅射镀膜分为平衡式与不平衡式。这种技术使用于材料镀膜。其间高功率脉冲磁控溅射（high-power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) 或 high-power pulsed magnetron sputtering (HPPMS)）近期运用较为广泛。
在二极溅射中增加一个平行于靶外表的关闭磁场，借助于靶外表上构成的正交电磁场，把二次电子捆绑在靶外表特定区域来增强磁控溅射镀膜电离功率，增加离子密度和能量，然后完毕高速率溅射的进程。
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