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千屹真空技术有限公司)
真空电镀是在高度真空条件下加热金属,使其熔融、蒸发,冷却后在镀件表面形成金属薄膜的方法。常用的金属是铝等低熔点金属。加热金属的方法:有利用电阻产生的热能,也有利用电子束的。 (
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在对金属制品实施电镀时,为了确保金属冷却时所散发出的热量不使镀件变形,必须对电镀时间进行调整。此外,熔点、沸点太高的金属或合金不适合于电镀。(
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置待镀金属和被镀件制品于真空室内,采用一定方法加热待镀材料,使金属蒸发或升华,金属蒸汽遇到冷的镀件表面凝聚成金属薄膜。
在真空条件下可减少蒸发材料的原子、分子在飞向镀件制品过程中和其他分子的碰撞,减少气体中的 活性分子和蒸发源材料间的化学反应(如氧化等),从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于 10-2Pa,对于蒸发源与被镀制品和薄膜质量要求很高的场合,则要求压力更低( 10-5Pa )。 镀层厚度0.04-0.1um太薄,反射率低;太厚,附着力差,易脱落。厚度0.04时反射率为90%。(
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