一般了解电镀基础都知道各种磁控溅射镀膜技术都必须在真空室中进行;密闭金属腔体抽真空,其本底真空度通常需达10-3Pa~10-5Pa;有的镀膜技术乃至也许有更高的真空度请求。
因为真空金属腔体内壁和磁控靶面吸附气体的放气,预抽真空,到达镀膜所请求的本底真空度需求较长的时刻;合格后,磁控溅射镀膜第2次以后的复抽真空,因为放气根本结束,真空合格时刻会大为缩短。
关于磁控溅射镀膜气体压强方面:
(1)直流和中频脉冲磁控溅射的作业气体压强通常在 0.3~0.8Pa 之间(典型值为5×10-1 Pa);
(2)射频磁控溅射镀膜能够在10-1~10-2 Pa作业气体压强下正常进行。
(3) 真空腔室大小、气体流量、真空抽速和闸板阀开合视点等多种要素都也许影响到作业气体压强。作业气体压强的最终检查值,实际上应看作是气体流量-真空抽速与闸板阀开合视点等参数的动态平衡的结果。
(4) 有些阴极靶材的磁控溅射镀膜技术(如对膜层的纯度和外表粗造度请求不高)还能够在1pa ~ 10Pa,乃至更高的作业气体压强下进行高效堆积镀膜。
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